酸性蚀刻液CC-228
- 酸性蚀刻的主要成份:HCl(盐酸)、NaClO3(氯酸钠)及添加剂
- CC-228系以低氯酸钠为主,且加入特殊之添加剂的浓缩蚀刻液,生产作业时,以低酸当量进行操作,现场无氯气,并得到较优良的蚀刻因子。

- 产品优势
- CC-228蚀刻液取代双氧水,避免双氧水的不稳定性;
- 药液参数容易监测,生产控制简单;
- 低酸操作,药性稳定;
- 低侧蚀,蚀刻因子可作到5-8以上,水洗性良好;
- 适用于精密线路蚀刻,线宽线距2/2蚀刻完全没有问题。
- 再生利用,成本低,又可实现自动控制管理。
- 操作参数
操作参数 | 最适条件 | 操作范围 |
比重 | 1.3 | 1.3±0.1 |
Cu2+(g/L) | 140 | 140±20 |
HCl(N)/mv | 2/300 | 2±1/250-320 |
CAP/mv | 25/520 | 15-40/480-600 |
Temp(℃) | 50 | 50±5 |
喷洒压力(kg/cm2) | 1~3 | 1~3 |
可手动添加控制或自动添加控制,最好使用自动添加控制。
- 自动添加控制生产线:
- 先将蚀刻机清洗干净,将所述铜蚀刻液加入原液缸内;
- 进行控制器设定(再生系统设定);
- 蚀刻操作
- 打开预热系统,使蚀刻液预热至蚀刻温度(≥45℃ );
- 开蚀刻泵及后处理系统,同时开抽风系统及再生系统;
- 试蚀刻底板,调至最佳蚀刻速度后开始蚀刻。
- 手动添加控制生产线:
- 开缸准备工序与自动线相同;
- 新液添加方法:检查蚀刻液的比重,当达到1.25-1.30时,排掉10-20%的工作液然后补充同体积的蚀刻新液。
- 酸性蚀刻反应原理(以NaClO3/HCl系统为例)
- 蚀铜反应:铜可以三种氧化状态存在,板面上的金属铜Cu,蚀刻槽液中的蓝色离子Cu2+ ,以及较不常见的亚铜离子Cu+ 。金属铜Cu可在蚀刻槽液中被Cu2+氧化而溶解,见下面反应式(1)
- 再生反应:金属铜Cu被蚀刻槽液中的Cu2+氧化而溶解,所生成的2Cu+又被自动添加进蚀刻槽液中的氧化剂和HCl经过系列反应氧化成Cu2+,而这些Cu2+又继续跟板面上的金属铜Cu发生反应,因此使蚀刻液能将更多的金属铜Cu咬蚀掉。这就是蚀刻液的循环再生反应,见下面反应式(2)
- 净反应:
- 设备要求
项目 | 要求 |
槽体 | PVC或CPVC |
加热器 | 石英,铁氟龙 |
冷却管 | PP钛材质 |
抽风系统 | 必须 |
喷洒系统 | 必须 |
循环系统 | 必须 |
- 蚀刻因子
- 在蚀刻过程中,蚀刻液除了做垂直向下的蚀铜作用,同时也会攻击线路两侧无保护的铜面,我们称之为侧蚀,因而会造成如香菇般的缺陷。蚀刻因子即是用来衡量、计算这种蚀刻品质的一种指标,通常酸性蚀刻要求蚀刻因子3以上。

- 蚀刻因子计算方法


E.F = 2*1.201/(5.094-4.655) = 5.58
- 影响蚀刻因子之因素
- 前制程生产质量影响:曝光质量、显影质量、板面清洁度、铜皮结构;
- 蚀刻槽液的影响:槽液各成份浓度是否在规格范围内;
- 蚀刻设备的影响:循环系统:流量4Turn/h或以上、喷洒系统、自动添加系统、输送系统;
- 槽液分析方法
- 铜离子含量
- 取槽液1ml置入250ml的锥形瓶中;
- 加入100ml纯水到锥形瓶中;
- 加入10ml 5.0%的氨水使溶液呈深蓝色;
- 加入0.2克M.X指示剂(如一粒芝麻量);
- 以0.1M EDTA滴定,直至颜色转变为绿色,再变成为紫色时为终点读取滴定量。
- 盐酸浓度:
- 取槽液1ml槽液倒入250ml杯中,再加50ml纯水;
- 加入3-5滴MO指示剂;
- 以0.1N NaOH滴定,直至液体成为淡黄绿色或PH=3.95为终点,读取滴定量。
- 酸性蚀刻的应用
目前酸性蚀刻常用种类:H2O2/HCl系列、NaClO3/HCl系列。
- 物理性质
品 名 | CC-228子液 |
形 态 | 液体 |
外 观 | 无色至淡黄色透明液体 |
稳定性 | 安定 |
比 重 | 1.05-1.20 |
pH 值 | 2-7 |
我司客户蚀刻因子切片图




- 安全防护